设备用途 | 主要用于光学微晶玻璃的精密退火及晶化 |
承受温度 | 950℃ |
炉膛容积 | 0.5m3—2m3 |
炉温均匀性 | ≤±3℃ |
炉膛气氛 | 热风循环 |
控温点 | 1个 |
控温精度 | ±1℃ |
电热元件 | Cr20Ni80电热合金丝 |
温控控制系统 | PID智能程序控温、无纸记录 |
设 备 特 点 | 1. 炉膛内热风循环保证温度均匀性 2. 多层活动料架便于调整产品尺寸 3. 外部干预新风程序冷却满足多种温场工艺 4. 485通讯接口可实现远程监控 |
备 注 | 以上参数仅供参考,此设备是非标准设备,具体是根据产品实际工艺要求订制。 |
设备用途 | 主要用于光学微晶玻璃的精密退火及晶化 |
承受温度 | 950℃ |
炉膛容积 | 0.5m3—2m3 |
炉温均匀性 | ≤±3℃ |
炉膛气氛 | 热风循环 |
控温点 | 1个 |
控温精度 | ±1℃ |
电热元件 | Cr20Ni80电热合金丝 |
温控控制系统 | PID智能程序控温、无纸记录 |
设 备 特 点 | 1. 炉膛内热风循环保证温度均匀性 2. 多层活动料架便于调整产品尺寸 3. 外部干预新风程序冷却满足多种温场工艺 4. 485通讯接口可实现远程监控 |
备 注 | 以上参数仅供参考,此设备是非标准设备,具体是根据产品实际工艺要求订制。 |